1 實驗部分

實驗所用其它設備包括600 W超聲清洗機（浙 江博凡動力）、高溫鼓風干燥箱（上海一恒儀器）、XMET 7500手持式X射線熒光儀（英國牛津儀器）。將石墨樣片進行預處理，包括打磨、超聲清洗和 烘烤三部分。對樣片表面進行打磨后，置于去離子 水中進行超聲清洗15 min，烘烤數小時得到初始樣 片。通過將一定量鎘廢液滴加于樣片表面和將樣片 置于鎘廢液中浸泡一定時長兩種方式，經反復高溫 烘烤得到兩種不同的模擬放射性沾污實驗樣片。

2 結果與討論

干法去污為熱等離子體直接對石墨樣片進行去 污處理，表面污染微?；蚴w吸收能量后產生 熱膨脹，其中微粒主要通過熱擴散、分解、氣化等方 式脫離石墨表面，同時石墨基材由于熱膨脹作用會 導致表層的剝離 。輸出電流為50 A時，石墨樣 片表面的剝離程度最大，最大剝離厚度達到57 μm。 輸出電流60 A時具有最佳的去污率，其剝離厚度小 于50 A，其原因在于表面孔隙和裂紋會加速熱等離 子體的剝離作用，而60 A處理樣片的表面孔隙和裂 紋較少。因此，可在較小的剝離厚度下便可得到較 大的去污率。

3 結論

干法去污的去污率和剝離厚度都隨著輸出電 流和去污時間的增大而增大，其中浸泡式樣片由于 具有更高的沾污程度，其去污率小于同等條件下的 滴加式樣片，且剝離厚度更大。濕法去污在干法去污的基礎上，增加了水膜 劇烈汽化產生的推離作用，在同等條件下大大提高 了熱等離子體的去污能力。

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